China acelera en semiconductores: impacto financiero del primer fotorresistente EUV MOR nacional

La noticia del arranque en Wuxi del primer proyecto nacional chino para producir fotorresistentes EUV basados en óxidos metálicos (MOR, Metal Oxide Resist) no solo supone un avance tecnológico. También abre un frente financiero con repercusiones en la cadena de suministro global de semiconductores.

El anuncio, realizado en la Conferencia de Innovación y Desarrollo de Circuitos Integrados 2025, sitúa a China en el mapa de los materiales de litografía más avanzados, un campo hasta ahora dominado por Japón (Tokyo Ohka Kogyo, JSR) y Estados Unidos (DuPont).


Un sector con fuerte dependencia externa

Hasta ahora, la industria china de chips dependía de proveedores extranjeros para los fotorresistentes de última generación. Estos consumibles son imprescindibles para aprovechar las máquinas EUV de ASML, y su suministro está incluido en muchas de las restricciones de exportación impuestas por EE. UU., Japón y Países Bajos.

Con el desarrollo local de los MOR EUV, China busca:

  • Reducir la vulnerabilidad geopolítica frente a sanciones.
  • Garantizar insumos críticos para proyectos de fabricantes nacionales como SMIC (lógica avanzada) o YMTC (memorias NAND).
  • Ofrecer una alternativa a la dependencia de Tokyo Ohka Kogyo y JSR, que hoy controlan la mayoría del mercado global de resinas EUV.

Implicaciones para los fabricantes chinos

  • SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation): el mayor foundry de China podría ser el principal beneficiario. Aunque sigue limitado a nodos de 7 nm y superiores, contar con un suministro local de fotorresistentes EUV le permitiría avanzar hacia procesos de 5 nm y 3 nm sin depender totalmente del exterior.
  • YMTC (Yangtze Memory Technologies): especializado en memorias NAND, aún no utiliza EUV en sus líneas de producción, pero tarde o temprano deberá incorporarlo para alcanzar densidades competitivas frente a Samsung y SK Hynix. Los MOR serían clave en esa transición.
  • CXMT (ChangXin Memory Technologies): en DRAM, la adopción de EUV ya es una tendencia global. Acceder a MOR nacionales podría acelerar la competitividad de la compañía.

Riesgos y desafíos financieros

Aunque el avance es estratégico, no está exento de riesgos:

  1. Costes iniciales elevados: la producción piloto de resinas EUV requiere pureza extrema y procesos estables, lo que implica grandes inversiones en I+D y en equipamiento.
  2. Escalado industrial incierto: producir a gran escala con la misma calidad que Tokyo Ohka Kogyo o JSR llevará tiempo.
  3. Compatibilidad internacional: los grandes foundries (TSMC, Samsung, Intel) no incorporarán MOR chinos en sus procesos sin certificaciones exhaustivas.

Para el inversor, esto significa que el impacto positivo será más estratégico y geopolítico en el corto plazo, mientras que los beneficios financieros directos tardarán en materializarse.


Efecto en proveedores globales

El movimiento chino podría alterar el equilibrio de un mercado que, aunque pequeño en volumen, es altamente rentable:

  • Tokyo Ohka Kogyo (TOK): líder en fotorresistentes EUV, con clientes en TSMC y Samsung. La entrada de un competidor chino no afectará sus ingresos a corto plazo, pero podría presionar su posición en Asia en el medio plazo.
  • JSR Corporation: otro referente japonés en químicos para litografía. Si China logra independencia en resinas, JSR perdería acceso a un mercado de gran volumen como el chino.
  • DuPont: centrado en el suministro a EE. UU. y Europa. El riesgo está en perder parte del potencial de crecimiento en Asia, aunque mantiene ventajas en patentes.

Para estos actores, el anuncio en Wuxi funciona como una señal de alerta: China está dispuesta a replicar la estrategia de sustitución de importaciones también en los materiales más sofisticados.


Perspectiva bursátil y de inversión

  • En el corto plazo, las cotizadas japonesas como TOK y JSR no verán cambios significativos: su tecnología sigue siendo la más avanzada y sus clientes principales no tienen intención de sustituir proveedores.
  • En el medio plazo (3-5 años), si el proyecto chino escala con éxito, podría reducir la cuota de mercado global de los proveedores japoneses en beneficio de fabricantes domésticos.
  • Para inversores en semiconductores chinos, el movimiento refuerza la narrativa de autosuficiencia tecnológica, lo que puede impulsar la valoración de empresas locales asociadas a la cadena de materiales y químicos.

Conclusión

El arranque del primer proyecto chino de fotorresistentes EUV MOR es un avance técnico, pero sobre todo un mensaje financiero y estratégico: China no quiere limitarse a ser usuaria de litografía avanzada, sino también proveedora de los materiales críticos que la hacen posible.

Aunque los riesgos de escalado son altos, si el plan tiene éxito, SMIC, YMTC y CXMT estarán mejor posicionadas frente a sus competidores, mientras que los proveedores globales de resinas podrían perder acceso a un mercado de miles de millones en consumo anual.

El tablero de los semiconductores no solo se juega en las máquinas de ASML, sino también en cada gota de los químicos que hacen posible la próxima generación de chips.


Preguntas frecuentes (FAQ)

¿Qué impacto tiene el desarrollo de MOR en SMIC?
Le permitiría avanzar hacia nodos de 5 nm y 3 nm reduciendo su dependencia de resinas importadas, siempre que consiga acceso a equipos EUV.

¿Qué empresas globales pueden verse más afectadas?
Principalmente las japonesas Tokyo Ohka Kogyo (TOK) y JSR Corporation, líderes actuales en fotorresistentes EUV.

¿Será rentable este avance para China en el corto plazo?
El beneficio financiero directo tardará en llegar, pero el valor estratégico y geopolítico es inmediato.

¿Podrán TSMC, Intel o Samsung usar MOR chinos?
En el corto plazo, no. La falta de certificaciones internacionales y de confianza en la calidad limitarán su uso fuera de China.

Scroll al inicio